プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小川勝男 , 田中恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-000449
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175503
出願日： 2005年01月05日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】活性種発生制御、均一性制御、半導体素子特性変化防止、プロセス処理条件の適正化が、それぞれ独立に制御できるプラズマ処理装置を実現する。【解決手段】プラズマ中に放射する電磁波と磁場による電子エネルギ状態制御、及び容量結合放電、誘導結合放電、電子サイクロトロン共鳴放電の各放電状態制御により、電子エネルギ状態を制御し、活性種発生を制御する。放射電磁波電力分布を変位電流制御により制御し、プラズマ分布を制御してプラズマ処理の均一性を制御する。また、処理基板を流れる高周波電流密度分布を制御して半導体素子の特性変化を防止する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマ処理ガス供給手段、プラズマ処理室内排気手段、プラズマ発生手段を備え、プラズマにより基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、前記プラズマ発生手段が、相互に絶縁され複数の導体からなる容量結合形放電手段、前記導体間に高周波変位電流を流し電磁波を放射する電磁波放射手段、及び磁場形成手段を有し、前記電磁波放射手段は、共振回路を形成した高周波変位電流制御手段により放射電磁波電力を制御する放射電磁波電力制御手段を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/46

FI (4件)：

H01L21/302 101B , H01L21/31 C , H05H1/46 M , H05H1/46 R

Fターム (33件)：

4K030AA06 , 4K030AA14 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA03 , 4K030JA16 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA34 , 4K030KA41 , 4K030KA49 , 5F004AA01 , 5F004AA02 , 5F004BA06 , 5F004BA14 , 5F004BA20 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004CA06 , 5F004CA08 , 5F004CB05 , 5F004CB18 , 5F004DB03 , 5F004DB09 , 5F045AA08 , 5F045AB32 , 5F045BB01 , 5F045EH05 , 5F045EH19 , 5F045GB08

引用特許：

出願人引用 (7件)

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-003366 出願人：松下電器産業株式会社
特開昭60-158629号公報
誘導RF結合を用いたプラズマ加工装置とその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-169619 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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