特許
J-GLOBAL ID:200903000409293595
めっき皮膜並びにこのめっき皮膜を形成するためのめっき液およびめっき方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
角田 嘉宏
, 古川 安航
, 西谷 俊男
, 幅 慶司
, 内山 泉
, 是枝 洋介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-094918
公開番号(公開出願番号):特開2006-274346
出願日: 2005年03月29日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
【課題】 比較的短時間で形成することができ、環境への負荷が小さく耐食性に優れためっき皮膜およびそのめっき皮膜を形成するためのめっき液を提供する。【解決手段】 めっき皮膜が、スズと鉄との二元合金、または、スズと、鉄と、亜鉛、コバルト、ニッケル、タングステン、モリブデン、銅、銀、金、ビスマス、インジウム、パラジウム、ロジウム、白金、リンおよびホウ素からなる群から選択される少なくとも1種との多元合金からなる。このめっき皮膜は電気めっき法を用いて基材上に形成される。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
電気めっき法によって基材上に電析される、スズと、鉄と、亜鉛、コバルト、ニッケル、タングステン、モリブデン、銅、銀、金、ビスマス、インジウム、パラジウム、ロジウム、白金、リンおよびホウ素からなる群から選択される少なくとも1種との多元合金からなる、めっき皮膜。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
4K023AB34
, 4K023BA06
, 4K023CB03
, 4K023CB04
, 4K023CB16
, 4K023CB21
, 4K023CB33
, 4K023DA02
, 4K023DA03
, 4K023DA04
, 4K023DA06
, 4K024AA15
, 4K024AA21
, 4K024AB01
, 4K024BA03
, 4K024BB02
, 4K024CA01
, 4K024CA02
, 4K024GA04
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
めっき磁性薄膜およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-191034
出願人:ティーディーケイ株式会社
-
特開昭60-027370
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特開昭51-149836
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審査官引用 (10件)
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めっき磁性薄膜およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-191034
出願人:ティーディーケイ株式会社
-
特開昭60-027370
-
特開昭51-149836
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