粒度分布測定装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河▲崎▼ 眞樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-145852
公開番号（公開出願番号）：特開2002-340779
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】測定サイクルに要する時間を大幅に短縮することが可能なレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置を提供する。【解決手段】フローセル3に対して媒液を供給した後に外部に排出し、かつフローセル3の上流側で随時に被測定粒子群を投入可能な媒液供給・排出系2と、粒子群による回折・散乱光の空間強度分布を測定する測定光学系5と、その出力が予め設定されたレベルに達しているときに当該測定光学系5の出力を有効データとして記憶・粒度分布の算出する演算手段7を備え、フローセル3内には、被測定粒子群を投入した後の僅かな時間だけ被測定粒子群が流れ直ちに系外に排出され、清浄な媒液により系内が洗浄された状態とし、従来の系内の洗浄工程を不要とする。

請求項（抜粋）：

分散飛翔状態の被測定粒子群にレーザ光を照射することによって得られる回折・散乱光の空間強度分布を測定し、その測定結果を用いて被測定粒子群の粒度分布を演算する粒度分布測定装置であって、フローセルと、そのフローセルに対して媒液を供給し、かつ、当該フローセルから流出した媒液を排出するとともに、フローセルの上流側で被測定粒子群を投入可能に構成された媒液供給・排出系と、上記フローセルに対してレーザ光を照射する照射光学系と、そのレーザ光の照射により生じる回折・散乱光の空間強度分布を測定する測定光学系と、その測定光学系により測定された回折・散乱光強度があらかじめ設定されたレベル以上になったとき、当該測定光学系による測定結果を用いて粒度分布を演算する演算手段を備えていることを特徴とする粒度分布測定装置。

引用特許：

出願人引用 (4件)

特許第2669290号
雨滴粒度分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-237686 出願人：株式会社島津製作所
粒度分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-169381 出願人：株式会社島津製作所

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審査官引用 (3件)

粒度分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-169381 出願人：株式会社島津製作所
特許第2669290号
雨滴粒度分布測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-237686 出願人：株式会社島津製作所

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