特許
J-GLOBAL ID:200903000854831467
ウェーハの搬送方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
油井 透
, 阿仁屋 節雄
, 清野 仁
, 福岡 昌浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-093095
公開番号(公開出願番号):特開2009-152649
出願日: 2009年04月07日
公開日(公表日): 2009年07月09日
要約:
【課題】 基板処理特性の低下を防止できるようにする。【解決手段】 カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第1の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第2の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第1の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第2の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、
反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置するウェーハの搬送方法。
IPC (5件):
H01L 21/677
, B65G 49/07
, H01L 21/68
, H01L 21/205
, H01L 21/306
FI (5件):
H01L21/68 A
, B65G49/07 C
, H01L21/68 F
, H01L21/205
, H01L21/302 101G
Fターム (40件):
5F004AA01
, 5F004AA16
, 5F004BB18
, 5F004BB19
, 5F004BC05
, 5F004BC06
, 5F031CA02
, 5F031DA09
, 5F031DA17
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA02
, 5F031GA45
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031JA29
, 5F031JA34
, 5F031JA35
, 5F031KA11
, 5F031MA04
, 5F031MA13
, 5F031MA28
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031NA09
, 5F031NA10
, 5F031PA23
, 5F045AA03
, 5F045AA06
, 5F045AA08
, 5F045BB01
, 5F045BB14
, 5F045EB08
, 5F045EM10
, 5F045EN05
, 5F045EN06
引用特許:
審査官引用 (16件)
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搬送装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-154337
出願人:東京エレクトロン東北株式会社
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半導体基板の搬出方法及び露光装置及び半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-179990
出願人:セイコーエプソン株式会社
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-292429
出願人:キヤノン株式会社
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特開平2-309624
-
特開平2-309624
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回転処理方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-289626
出願人:株式会社日立製作所
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回転処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-300279
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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回転処理装置およびその洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-312659
出願人:東京エレクトロン株式会社
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半導体ウエハの搬送方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-287544
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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基板搬送装置および露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-325142
出願人:キヤノン株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-178701
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-321924
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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回転処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-172673
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-312842
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-059524
出願人:東京エレクトロン東北株式会社, 株式会社安川電機
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塗布・現像処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-221712
出願人:キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社
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