特許
J-GLOBAL ID：200903000854831467

ウェーハの搬送方法

発明者：
示野 和弘

示野 和弘 について

, 
吉岡 健

吉岡 健 について


出願人/特許権者：
株式会社日立国際電気

株式会社日立国際電気 について


代理人 (4件)： 油井 透 ,  阿仁屋 節雄 ,  清野 仁 ,  福岡 昌浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-093095
公開番号（公開出願番号）：特開2009-152649
出願日： 2009年04月07日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】 基板処理特性の低下を防止できるようにする。【解決手段】 カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第1の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第2の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第1の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第2の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、 反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置するウェーハの搬送方法。
IPC (5件)：
H01L 21/677 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306
FI (5件)：
H01L21/68 A ,  B65G49/07 C ,  H01L21/68 F ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101G
Fターム (40件)：
5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BB18 ,  5F004BB19 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F031CA02 ,  5F031DA09 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA45 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031JA29 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031KA11 ,  5F031MA04 ,  5F031MA13 ,  5F031MA28 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031PA23 ,  5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045BB14 ,  5F045EB08 ,  5F045EM10 ,  5F045EN05 ,  5F045EN06
引用特許：
審査官引用 (16件)
  • 搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-154337   出願人：東京エレクトロン東北株式会社
  • 半導体基板の搬出方法及び露光装置及び半導体装置の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-179990   出願人：セイコーエプソン株式会社
  • 半導体製造装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-292429   出願人：キヤノン株式会社
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM