特許
J-GLOBAL ID：200903000872125669
エッチング液,その製造方法及びエッチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-223998
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058500
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：
【要約】【課題】 シリコン酸化膜のエッチングレートが非常に小さいシリコン窒化膜のエッチング液,その製造方法及びエッチング方法を提供する。【解決手段】 エッチング液として、りん酸に溶媒を介してシリコンを含む化合物をシリコンイオンの濃度が20〜500ppmになるように溶解させる。エッチング液の調整時には、りん酸液にTEOSなどのシリコンを含む化合物を添加する前に、あらかじめTEOS等をエタノールなどの溶媒,特にりん酸と相溶性のアルコールに溶解させてから、この混合液をりん酸液に添加し溶解させる。シリコン窒化膜のエッチングに際しては、エッチング液を145°C〜170°Cの範囲に昇温してエッチングを行なう。LOCOS膜形成のための窒化膜マスク下方のパッド酸化膜が5nm程度に薄い場合にも、シリコン酸化膜を残した状態でシリコン窒化膜のオーバーエッチングを行なうことが可能となる。
請求項（抜粋）：
りん酸液と、シリコンを含む化合物と、上記シリコンを含む化合物を上記りん酸液に溶解させるための溶媒とを含み、シリコン窒化膜とシリコン酸化膜とに対するエッチング選択比が所定値以上になるように調整されているエッチング液。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/308
H01L 21/306 D
, H01L 21/308 E
5F043AA35
, 5F043BB23
, 5F043BB30
, 5F043DD07
, 5F043DD30
