処理装置、洗浄処理装置およびそれらの画面処理方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：亀谷美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-214121
公開番号（公開出願番号）：特開平8-107095
出願日： 1995年07月31日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：

【要約】【課題】操作が容易かつ入力ミスの生じにくいレシピ作成画面を提供する。【解決手段】本発明によれば、洗浄処理装置の各処理槽に関連する情報、たとえば処理レシピが、処理フローに沿って時系列的に図表化され、図表化された処理レシピがオペレータ用画面に表示されるとともに、図表化された処理レシピの個々の情報の近傍に対応するパラメータが表示され、その画面上でパラメータの設定/変更を行うことができる。その結果、高度な専門的知識を有しないオペレータであっても、時系列的に図表化された情報に沿って、逐次パラメータの設定/変更を行うことにより、容易にかつ入力ミスを最小限に抑えながら操作することが可能なので、ユーザフレンドリーな処理レシピ設定/変更環境を提供することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体が装置内に搬入されるローダ部と、被処理体が装置外に搬出されるアンローダ部とを備え、被処理体を薬液洗浄する1または2以上の薬液槽と、被処理体を純水洗浄する1または2以上の水洗槽とを少なくとも含む複数の処理槽と、被処理体を乾燥処理する乾燥器とが、前記ローダ部と前記アンローダ部との間に順次配列されて成る洗浄処理装置を制御するためのオペレータ用画面の表示方法であって、処理フローに沿って時系列的に各処理槽に関連する情報を図表化する工程と、前記オペレータ用画面に、各処理槽ごとに、図表化された前記情報を表示するとともに、表示された各情報の近傍に対応するパラメータを表示する工程と、表示された前記オペレータ用画面において、前記パラメータを設定および/または変更する工程と、から成ることを特徴とする、洗浄処理装置の画面処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/04 , B08B 13/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-310266
基板処理装置の基板搬送制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-004942 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-170520

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