特許
J-GLOBAL ID：200903001061527240
パターン形成状態検出装置、及びこれを用いた投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-176432
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022205
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 短時間で最適な露光条件を設定することができ、高集積度の投影パターンが容易に得られるパターン形成状態検出装置及びそれを用いた投影露光装置の提供。【解決手段】 露光光で感光体を塗布した物体上に形成した感光パターン、該感光パターンに入射光束を照射する光束入射手段、該感光パターンからの信号光束を受光する受光手段、該受光手段からの信号を用いて該光束の変化を検出し、該感光パターンの形成状態を求める処理手段とを有するパターン形成状態検出装置において、該光束入射手段が入射光束の入射条件を変化させる手段を有する。
請求項（抜粋）：
露光光で感光体を塗布した物体上に形成した感光パターン、該感光パターンに入射光束を照射する光束入射手段、該感光パターンからの信号光束を受光する受光手段、該受光手段からの信号を用いて該光束の変化を検出し、該感光パターンの形成状態を求める処理手段とを有するパターン形成状態検出装置において、該光束入射手段が入射光束の入射条件を変化させる手段を有することを特徴とするパターン形成状態検出装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L 21/30 514 E
, G03F 7/20
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 516 D
, H01L 21/30 526 B
出願人引用 (11件)
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特開昭59-168636
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デバイスの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-302650
出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
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特性値測定方法及び装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-200719
出願人：株式会社日立製作所
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審査官引用 (11件)
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