特許
J-GLOBAL ID：200903001186355433

汚染物質測定装置及びその装置を用いた汚染物質測定方法ならびに工業用水の水処理方法

発明者：
中谷 幸雄

中谷 幸雄 について

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下本 英明

下本 英明 について

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吉田 稔

吉田 稔 について


出願人/特許権者：
株式会社片山化学工業研究所

株式会社片山化学工業研究所 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-380584
公開番号（公開出願番号）：特開2002-181805
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】 現場における薬剤効力の評価とテーブルにおける評価を一致させるとともに、測定時間を短縮できる工業用水の汚染物質測定方法及びその測定装置ならびに工業用水の処理方法を提供する。【解決手段】 汚染物質測定装置は、工業用水循環系内の汚染物質を測定する装置であって、前記系内の試料水を流す水路部と、前記試料水に接触するように水路部に支持された接触部材と、水路部に試料水を循環させる試料水循環部材とからなり、試料水循環部材が、試料水の循環速度を任意に設定可能なポンプを有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
工業用水循環系内の汚染物質を測定する装置であって、前記系内の試料水を流す水路部と、前記試料水に接触するように水路部に支持された接触部材と、水路部に試料水を循環させる試料水循環部材とからなり、試料水循環部材が、試料水の循環速度を任意に設定可能なポンプを有することを特徴とする汚染物質測定装置。
IPC (4件)：
G01N 33/18 ,  C02F 1/00 ZAB ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 21/77
FI (5件)：
G01N 33/18 Z ,  G01N 33/18 F ,  C02F 1/00 ZAB V ,  G01N 1/00 101 M ,  G01N 21/77 C
Fターム (21件)：
2G052AA06 ,  2G052AB22 ,  2G052AC27 ,  2G052AD09 ,  2G052BA03 ,  2G052BA21 ,  2G052CA12 ,  2G052DA05 ,  2G052DA21 ,  2G052GA12 ,  2G052GA28 ,  2G052HC22 ,  2G052HC29 ,  2G052JA07 ,  2G052JA13 ,  2G052JA16 ,  2G054AA04 ,  2G054CA30 ,  2G054CE01 ,  2G054EA04 ,  2G054GE01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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