特許
J-GLOBAL ID：200903001313778101
シリコン鋳造用鋳型
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-332024
公開番号（公開出願番号）：特開2005-095924
出願日： 2003年09月24日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】鋳型内にシリコン融液を注湯する際、その後の凝固する際、あるいは鋳型に入れたシリコン原料を溶解する際に離型材が剥離してシリコン融液中に混入したり、離型材が鋳型に付着して鋳型が再使用できなくなったりすることを抑制し、鋳型材を黒鉛にした場合の酸化消耗や、鋳塊中の酸素濃度の増加を抑えたシリコン鋳造用鋳型を手間を省いて安価に提供する。【解決手段】鋳型内表面に離型材層を設けた鋳型内部のシリコン融液を凝固させるシリコン鋳造用鋳型において、前記離型材層は、鋳型に接する側に設けられた第一の離型材層と、シリコン融液に接する側に設けられた第二の離型材層とを具備するとともに、これらの各離型材層は、表面にシリカ層が形成された窒化珪素粉末を含有してなり、前記第二の離型材層は、前記第一の離型材層よりも前記窒化珪素粉末の含有比率が少ないことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
鋳型内表面に離型材層を設けた鋳型内部のシリコン融液を凝固させるシリコン鋳造用鋳型において、前記離型材層は、鋳型に接する側に設けられた第一の離型材層と、シリコン融液に接する側に設けられた第二の離型材層とを具備するとともに、これらの各離型材層は、表面にシリカ層が形成された窒化珪素粉末を含有してなり、前記第二の離型材層は、前記第一の離型材層よりも前記窒化珪素粉末の含有比率が少ないことを特徴とするシリコン鋳造用鋳型。
IPC (3件)：
B22C3/00
, B22D17/20
, C01B33/02
B22C3/00 B
, B22D17/20 D
, C01B33/02 E
4E092AA04
, 4E092AA05
, 4E092CA03
, 4E092DA05
, 4E092EA10
, 4E092GA01
, 4G072AA01
, 4G072BB12
, 4G072GG04
, 4G072HH01
, 4G072NN02
, 4G072UU02
