樹脂組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大垣孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-298576
公開番号（公開出願番号）：特開平7-152156
出願日： 1993年11月29日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：

【要約】【目的】後重合を防止出来、かつ、少なくとも従来と同程度の感度を有する樹脂組成物を提供することを目的とする。【目的】下記(9)式で示され、重量平均分子量が10,000でかつ末端がOH基であるポリ(ジ-t-ブトキシシロキサン)190g(1mol)と、架橋剤としてヘキサ(t-ブトキシ)シロキサン10.1g(0.02mol)と、酸発生剤として、トリフェニルスルホニウムトリフタレート(Ph3 S+ OTf- )8.25g(0.02mol)とを、モノクロロベンゼン1780gに溶解して樹脂組成物を調製する。【化7】

請求項（抜粋）：

下記(1)式で示されるポリ(シロキサン)誘導体及び下記(2)式で示されるポリ(シロキサン)誘導体のいずれか1種又はこれらの共重合体と、架橋剤と、露光によって酸を発生する酸発生剤とを含むことを特徴とする樹脂組成物(ただし、式中R1 、R2 、R3 、R4 はアルキル基を示し、同一でも異なっていても良い。また、m,nは正の整数を示す。)。【化1】

IPC (4件)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (15件)

レジスト組成物及びそれを用いるパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-063341 出願人：富士通株式会社
特開平4-366958
特開平2-108053

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