特許
J-GLOBAL ID：200903001453738703

ポジ型レジスト組成物

発明者：
藤森 亨

藤森 亨 について

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河邊 保雅

河邊 保雅 について

, 
中尾 元

中尾 元 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-209543
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090987
出願日： 2001年07月10日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：
【要約】【課題】 パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)下記一般式(I)で表される部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物【化1】を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (16件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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