点回折干渉計、反射鏡の製造方法及び投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-039092
公開番号（公開出願番号）：特開2001-227909
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【目的】大NAの被検物の高精度な面測定(約0.2nmrms程度の面精度が測定)が可能な点回折干渉計を提供することを目的とする。また、反射鏡の製造方法及びこの製造方法により製造された反射鏡を備えた投影露光装置を提供する。【解決手段】光源から照射された光を集光光学系を介してピンホールミラーに照射し、該ピンホールから回折した光の一部を測定用光束として被測定面に照射し、該被測定面で反射された前記測定用光束と、前記ピンホールから回折した光の他の一部である参照用光束とを互いに干渉させ、該干渉により生じる干渉縞の状態を検知することにより前記被測定面の面精度を測定する点回折干渉計であって、前記ピンホール径(直径)の範囲が、λ/2≦φPH≦λ/NAλ:前記光源から照射された光の波長、NA:前記集光光学系の開口数、φPH:前記ピンホール径であることを特徴とする点回折干渉径。

請求項（抜粋）：

光源から照射された光を集光光学系を介してピンホールミラーに照射し、該ピンホールから回折した光の一部を測定用光束として被測定面に照射し、該被測定面で反射された前記測定用光束と、前記ピンホールから回折した光の他の一部である参照用光束とを互いに干渉させ、該干渉により生じる干渉縞の状態を検知することにより前記被測定面の面精度を測定する点回折干渉計であって、前記ピンホール径(直径)の範囲が、λ/2≦φPH≦λ/NAλ:前記光源から照射された光の波長、NA:前記集光光学系の開口数、φPH:前記ピンホール径であることを特徴とする点回折干渉計。

IPC (6件)：

G01B 9/04 , G02B 5/08 , G02B 5/18 , G02B 27/28 , G03F 7/20 503 , H01L 21/027

FI (7件)：

G01B 9/04 , G02B 5/08 A , G02B 5/18 , G02B 27/28 Z , G03F 7/20 503 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 531 A

Fターム (36件)：

2F064AA09 , 2F064AA13 , 2F064EE10 , 2F064FF01 , 2F064GG03 , 2F064GG04 , 2F064GG38 , 2F064GG39 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2H042DA03 , 2H042DA04 , 2H042DA05 , 2H042DA07 , 2H042DA08 , 2H042DA12 , 2H042DB00 , 2H042DC02 , 2H042DE09 , 2H049AA01 , 2H049AA34 , 2H049AA50 , 2H049AA55 , 2H097AA02 , 2H097AB09 , 2H097CA15 , 2H097EA01 , 2H097GB00 , 2H097LA10 , 2H099AA00 , 2H099BA09 , 2H099CA08 , 5F046CA03 , 5F046CB03 , 5F046GB01 , 5F046GC04

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-228505
特開平2-228505
干渉計
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-311353 出願人：ソニー株式会社

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