フォトレジスト膜除去方法および装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-323503
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150349
出願日： 1998年11月13日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】換気設備のためのコストや原料のコストを低減でき、環境汚染も防止できるフォトレジスト膜の除去方法およびそのための装置の提供。【解決手段】密閉された系内において、基板表面上に塗布されたフォトレジスト膜に、該フォトレジスト膜と対向して配置されたフォトレジスト膜除去剤供給板から、オゾン化ガスおよびフォトレジスト膜除去溶液を含むフォトレジスト膜除去剤を均等にかつ連続的または断続的に供給して該フォトレジスト膜を除去する方法。

請求項（抜粋）：

密閉された系内において、基板表面上に塗布されたフォトレジスト膜に、該フォトレジスト膜と対向して配置されたフォトレジスト膜除去剤供給板から、オゾン化ガスおよびフォトレジスト膜除去溶液を含むフォトレジスト膜除去剤を均等にかつ連続的または断続的に供給して該フォトレジスト膜を除去する方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/26 , G03F 7/42 , H01L 21/3065 , H01L 21/306

FI (6件)：

H01L 21/30 572 B , G03F 7/26 , G03F 7/42 , H01L 21/302 H , H01L 21/306 D , H01L 21/306 R

Fターム (31件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096HA28 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 2H096LA25 , 5F004BB12 , 5F004BB24 , 5F004BB26 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004CA02 , 5F004CA04 , 5F004DA26 , 5F004DA27 , 5F004DB26 , 5F004EA10 , 5F043BB30 , 5F043CC16 , 5F043DD04 , 5F043DD06 , 5F043DD07 , 5F043DD15 , 5F043EE08 , 5F043EE10 , 5F043EE12 , 5F043EE35 , 5F043EE37 , 5F046MA05 , 5F046MA10 , 5F046MA13

引用特許：

審査官引用 (4件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-057672 出願人：株式会社日立製作所
有機物除去方法及び有機物除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-159192 出願人：株式会社日立製作所
有機物除去方法及びその方法を使用するための装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-290259 出願人：株式会社日立製作所

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