特許
J-GLOBAL ID：200903001762106452

基板処理装置

発明者：
村岡 祐介

村岡 祐介 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-276157
公開番号（公開出願番号）：特開2002-093769
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月29日
要約：
【要約】【課題】 処理液の使用量を低減できる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板Wを処理液に浸漬してこの基板Wを表面処理するための処理槽1を備えた基板処理装置において、処理槽1から排出された処理液から純水を生成する純水生成部2と、処理槽1から排出された処理液を純水生成部2に供給しこの純水生成部2で生成された純水を処理槽1に供給するように循環させるための第1の循環路3とを備える。
請求項（抜粋）：
処理液により基板を表面処理するための処理部を備えた基板処理装置において、前記処理部から排出された処理液から純水を生成する純水生成手段と、前記処理部から排出された処理液を前記純水生成手段に供給し、この純水生成手段で生成された純水を前記処理部に供給するように、処理液を循環させるための循環路とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 J
Fターム (8件)：
5F043BB27 ,  5F043DD23 ,  5F043EE23 ,  5F043EE33 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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