特許
J-GLOBAL ID：200903001796679990

新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途

発明者：
宮重 亮三

宮重 亮三 について

, 
田中 宏明

田中 宏明 について

, 
嶋口 徹

嶋口 徹 について


出願人/特許権者：
東洋化成工業株式会社

東洋化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-361803
公開番号（公開出願番号）：特開2003-246774
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：
【要約】【課題】 光照射により発生するアニオン由来の酸性物質により、周辺環境が汚染されたり悪影響を被ることがないような、2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウム塩、並びにその製造方法を提供する。【解決手段】 光酸発生剤として有用な、式(1)の2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムカンファースルホネート、並びに、2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムブロマイドをカンファースルホン酸アンモニウムと塩交換する上記化合物の製造方法。【化1】
請求項（抜粋）：
式(1)の2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムカンファースルホネート。【化1】
IPC (2件)：
C07C309/25 ,  C07D333/46
FI (2件)：
C07C309/25 ,  C07D333/46
Fターム (2件)：
4H006AA01 ,  4H006AB40
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-098796   出願人：東京応化工業株式会社
  • 光モジュール製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-057189   出願人：株式会社日立製作所
  • 光硬化性樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-236042   出願人：株式会社東芝
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審査官引用 (4件)
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