特許
J-GLOBAL ID：200903001503328889
下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-186575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072925
出願日： 1998年07月01日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 下層膜をパターニングする方法において、その上層のレジストパターンの膜減りを抑制するとともに、垂直な側壁を有し、断面が矩形の良好な形状を有するパターンを高い解像度、かつ高い寸法精度で形成する方法を提供する。【解決手段】 被加工膜上に下層膜を形成する工程と、前記下層膜上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜及び下層膜をパターン露光する工程と、前記露光後のレジスト膜及び下層膜の所定の領域を現像液で現像処理する工程とを具備するパターン形成方法である。前記下層膜は、酸の作用によって前記現像液に対する溶解性が変化する特性を有し、前記レジスト膜及び下層膜の少なくとも一方は、前記酸を発生する化合物を含有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
酸によって分解する置換基を有し分解後にアルカリ可溶性基を生じる化合物と、前記酸を発生する酸発生剤とを含有する下層膜用組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/11 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/11 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 574
