特許
J-GLOBAL ID：200903001933669990

半透過型液晶表示装置およびその製造方法

発明者：
井樋田 悟史

井樋田 悟史 について

, 
篠原 正樹

篠原 正樹 について

, 
小山 学

小山 学 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について

, 
秋田日本電気株式会社

秋田日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 机 昌彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-314217
公開番号（公開出願番号）：特開2003-207774
出願日： 2002年10月29日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：
【要約】【課題】 ITOとアルミの間にモリブデンを挟んでレジストパターンニング時の電池効果を阻止す方法ではモリブデンの効果が十分得られない。【解決手段】 半透過型液晶表示装置およびその製造方法において、凹凸構造の有機膜上にITO膜、Mo膜、Al膜を形成する場合に、Mo膜の電池効果抑制作用がよく発揮できるように、有機膜表面をプラズマ処理した後に、その表面をあえて洗浄液で洗浄し、その後、ITO電極の形成、アルミ-モリブデンの2層の積層電極の形成を行う。
請求項（抜粋）：
半透過型液晶表示装置の製造方法の製造方法において、透明基板上に薄膜トランジスタを形成する工程と、前記基板上に有機膜を形成する工程と、前記有機膜をプラズマ処理して前記有機膜表面に改質層を形成する工程と、前記プラズマ処理による改質層の表面を、洗浄液を用いて洗浄する工程と、前記洗浄液で洗浄された前記改質層の表面に透明電極膜を形成する工程と、前記透明電極膜を所望の形状にパターンニングして、前記改質層を露出させる工程と、前記パターンニングされた透明電極膜の表面と前記透明電極から露出する前記改質層の表面とに反射電極膜を被着する工程と、前記反射電極膜から前記透明電極膜を露出させるために開口部を形成するためにレジスト膜を、前記反射電極膜の全面に被着して露光現像して前記開口部用のレジストマスクを形成するする工程と、前記レジストマスクをマスクにして、前記透明電極膜を前記反射電極膜の開口部から露出させるように前記反射電極膜をパターニングする工程と、前記レジストマスクを除去する工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置の製造方法の製造方法。
IPC (7件)：
G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/308 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786
FI (9件)：
G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 21/308 G ,  H01L 29/78 612 D ,  H01L 29/78 616 U ,  H01L 21/88 N ,  H01L 21/88 R ,  H01L 21/88 M
Fターム (99件)：
2H088FA21 ,  2H088HA02 ,  2H088HA04 ,  2H088HA06 ,  2H088HA21 ,  2H088HA22 ,  2H088MA20 ,  2H091FA15Y ,  2H091FC10 ,  2H091FC24 ,  2H091FC26 ,  2H091FC27 ,  2H091FD04 ,  2H091GA02 ,  2H091GA07 ,  2H091GA11 ,  2H091GA16 ,  2H091LA07 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  2H092GA13 ,  2H092GA20 ,  2H092GA26 ,  2H092HA04 ,  2H092HA05 ,  2H092HA06 ,  2H092MA08 ,  2H092MA13 ,  2H092MA14 ,  2H092MA15 ,  2H092MA42 ,  2H092NA30 ,  5F033HH08 ,  5F033HH10 ,  5F033HH17 ,  5F033HH20 ,  5F033HH38 ,  5F033JJ01 ,  5F033JJ08 ,  5F033JJ10 ,  5F033JJ17 ,  5F033JJ20 ,  5F033KK04 ,  5F033KK05 ,  5F033KK17 ,  5F033LL07 ,  5F033MM05 ,  5F033MM08 ,  5F033NN06 ,  5F033PP15 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ10 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ73 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033RR27 ,  5F033SS21 ,  5F033SS22 ,  5F033TT04 ,  5F033VV15 ,  5F033WW03 ,  5F033XX00 ,  5F033XX10 ,  5F033XX14 ,  5F043AA37 ,  5F043BB28 ,  5F043DD30 ,  5F043GG10 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110EE04 ,  5F110FF02 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110HK04 ,  5F110HL03 ,  5F110HL04 ,  5F110HL06 ,  5F110HL07 ,  5F110HL12 ,  5F110HL23 ,  5F110HL27 ,  5F110HM02 ,  5F110NN03 ,  5F110NN05 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN40 ,  5F110NN72 ,  5F110QQ05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
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