特許
J-GLOBAL ID:200903002084306817

紫外線を照射または発生する光学系

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-272591
公開番号(公開出願番号):特開平11-167132
出願日: 1998年09月09日
公開日(公表日): 1999年06月22日
要約:
【要約】【課題】 光学部品に波長400nm以下の紫外線を照射しても特性を低下させない紫外線照射光学系、及び外部共振器を用いて波長400nm以下の紫外線に波長変換する場合も高調波出力低下を生じない紫外線発生光学系を提供する。【解決手段】 光学部品に波長400nm以下の紫外線を照射する光学系について、その光学部品の雰囲気を、あるいは、外部共振器内に非線形光学結晶を配置した波長変換系である紫外線を発生する光学系で波長400nm以下の紫外線を発生させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気を、?@99.9%以上の窒素とし、または?A99.9%以上の乾燥空気とし、または?B水分が0.1%以下の気体とし、または?C炭化水素化合物分が0.1%以下の気体とする。
請求項(抜粋):
光学部品に波長400nm以下の紫外線を照射する光学系であって、その光学部品の雰囲気の湿度を大気よりも低減する措置を施すことを特徴とする紫外線を照射する光学系。
IPC (3件):
G02F 1/37 ,  G02B 17/08 ,  G02B 1/04
FI (3件):
G02F 1/37 Z ,  G02B 17/08 Z ,  G02B 1/04
引用特許:
審査官引用 (8件)
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