特許
J-GLOBAL ID:200903002138502196

レジスト用単量体およびレジスト用重合体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-294849
公開番号(公開出願番号):特開2006-104378
出願日: 2004年10月07日
公開日(公表日): 2006年04月20日
要約:
【課題】 パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。【解決手段】 式(2)で表される構成単位を有する重合体であって、式(2)で表される構成単位のうち、式(2-1)で表される構成単位の比率が50モル%以上であるレジスト用重合体。 【化1】 (式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、R1 は、酸素原子を含んでいてもよい炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。)【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で表される単量体であって、 該単量体のうち、下記式(1-1)で表される単量体の比率が50モル%以上であるレジスト用単量体。
IPC (5件):
C08F 20/28 ,  C07C 69/013 ,  C07C 69/54 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (5件):
C08F20/28 ,  C07C69/013 C ,  C07C69/54 B ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (48件):
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AU29Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA40Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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