特許

J-GLOBAL ID：200903011431177339

新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

発明者： 金生 剛 ,  西 恒寛 ,  栗原 英志 ,  中島 睦雄 ,  長谷川 幸士 ,  渡辺 武
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174945
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309611
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はH、CH3又はCH2CO2R14、R2はH、CH3又はCO2R14、R3はC1〜C8のアルキル基又はC6〜C20の置換されていてもよいアリール基、R4〜R13はH又はC1〜C15のヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示し、互いに環を形成していてもい。R4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14はC1〜C15のアルキル基を示す。kは0又は1である。また、本式により、鏡像体も表す。)【効果】 本発明のエステル化合物から得られる高分子化合物をベース樹脂としたレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用であり、特にArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成することができる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R14を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R14を示す。R3は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されていてもよいアリール基を示す。R4〜R13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示し、互いに環を形成していてもよく、その場合には炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい2価の炭化水素基を示す。またR4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。kは0又は1である。また、本式により、鏡像体も表す。)

IPC (7件)：

C08F 34/00 ,  C07C 69/753 ,  C08F220/00 ,  C08G 61/08 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/027 ,  C09D167/00

FI (7件)：

C08F 34/00 ,  C07C 69/753 C ,  C08F220/00 ,  C08G 61/08 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/027 ,  C09D167/00

Fターム (68件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ04 ,  2H025BJ10 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ30 ,  4J002BK001 ,  4J002EQ016 ,  4J002ES016 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J032CA33 ,  4J032CA45 ,  4J032CA62 ,  4J032CB01 ,  4J032CB04 ,  4J032CB12 ,  4J032CC03 ,  4J032CD01 ,  4J032CD09 ,  4J032CE03 ,  4J032CE22 ,  4J032CG06 ,  4J038CG012 ,  4J038CG032 ,  4J038CG142 ,  4J038CH152 ,  4J038EA011 ,  4J038JA60 ,  4J038PA17 ,  4J100AJ02R ,  4J100AK32Q ,  4J100AL08R ,  4J100AR09P ,  4J100AR09R ,  4J100AR11P ,  4J100AR11R ,  4J100BA03R ,  4J100BA15R ,  4J100BA16R ,  4J100BA20R ,  4J100BC07R ,  4J100BC08R ,  4J100BC43R ,  4J100BC53R ,  4J100BC55R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100FA17 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平1-132625
  
• 特開平1-197460
  
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-258836   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-258835   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-257003   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性レジスト製造用重合体及びこれを含有するレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-202429   出願人：コーリアクンホペトロケミカルカンパニー・リミテッド
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-065600   出願人：富士写真フイルム株式会社