特許
J-GLOBAL ID：200903002272544008

載置台構造及び熱処理装置

発明者：
朝倉 賢太朗

朝倉 賢太朗 について

, 
川崎 裕雄

川崎 裕雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-161758
公開番号（公開出願番号）：特開2007-335425
出願日： 2006年06月12日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：
【課題】均熱部材を載置台内に一体的に埋め込むようにして被処理体の面内温度の均一性を高めると共に、被処理体に対する加熱効率を高めることが可能な載置台構造を提供する。【解決手段】処理容器4内にて被処理体Wに対して所定の熱処理を施すために前記被処理体を加熱する加熱手段38が埋め込まれると共に、前記被処理体を載置する載置台32と、前記載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持する支柱30とを有する載置台構造において、前記載置台内に、前記埋め込まれている前記加熱手段の上方に位置させて平面方向に広がった均熱部材40を埋め込むように構成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理容器内にて被処理体に対して所定の熱処理を施すために前記被処理体を加熱する加熱手段が埋め込まれると共に、前記被処理体を載置する載置台と、前記載置台を前記処理容器の底部より起立させて支持する支柱とを有する載置台構造において、 前記載置台内に、前記埋め込まれている前記加熱手段の上方に位置させて平面方向に広がった均熱部材を埋め込むように構成したことを特徴とする載置台構造。
IPC (5件)：
H01L 21/02 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/458 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/683
FI (5件)：
H01L21/02 Z ,  H01L21/31 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  H01L21/68 N
Fターム (22件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031PA06 ,  5F031PA11 ,  5F045AA03 ,  5F045AA08 ,  5F045AA15 ,  5F045DQ10 ,  5F045EK08 ,  5F045EM02 ,  5F045EM09
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (8件)
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