特許
J-GLOBAL ID：200903002273468950

X線マスクの製造方法およびその装置

発明者：
土澤 泰

土澤 泰 について

, 
高橋 千春

高橋 千春 について

, 
小田 政利

小田 政利 について


出願人/特許権者：
日本電信電話株式会社

日本電信電話株式会社 について


代理人 (1件)： 中村 純之助 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-236801
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059193
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：
【要約】【課題】エッチング中のプラズマからの発光を分光し、エッチング反応に関わる化学種の発光強度の変化を感度よくモニターすることで、エッチング面積が微少な場合でも、エッチングの開始点、終点を高精度に検出し、X線マスクの作製プロセスにおけるエッチングの再現性を高め、高精度のパターン形成を実現するX線マスクの製造方法と装置を提供する。【解決手段】エッチング室におけるプラズマの発光強度をモニターする受光手段を配置し、プラズマ中の化学種の発光を分光して検出し、プラズマ中の化学種の発光強度の信号に設定の演算処理を施してエッチングの始点と終点を判定する工程と、エッチングの開始または終了点より所定の時間経過後、エッチング条件を変更する工程もしくはエッチングを停止する工程を少なくとも含むX線マスクの製造方法および装置とする。
請求項（抜粋）：
プラズマによるエッチング装置を用いてX線マスクを製造する方法において、上記エッチング装置のエッチング室におけるプラズマの発光強度をモニターする受光手段を配置し、上記プラズマ中の化学種の発光を分光して発光強度信号を検出する工程と、該プラズマ中の化学種の発光強度信号に設定の演算処理を施すことによりエッチングの始点と終点を判定する工程と、上記エッチングの開始または終了点より所定の時間経過後、エッチング条件を変更する工程、もしくはエッチングを停止する工程を少なくとも含むことを特徴とするX線マスクの製造方法。
IPC (4件)：
C23F 4/00 ,  G03F 1/16 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
C23F 4/00 F ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/302 E
Fターム (25件)：
2H095BA10 ,  2H095BB10 ,  2H095BB17 ,  2H095BB18 ,  2H095BB31 ,  2H095BC01 ,  4K057DA14 ,  4K057DB08 ,  4K057DD04 ,  4K057DE01 ,  4K057DJ03 ,  4K057DM29 ,  4K057DM40 ,  5F004AA16 ,  5F004BA14 ,  5F004BB14 ,  5F004BD03 ,  5F004CB02 ,  5F004CB15 ,  5F004DA04 ,  5F004DB08 ,  5F046GD01 ,  5F046GD12 ,  5F046GD15 ,  5F046GD17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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