特許

J-GLOBAL ID：200903002375182783

多層膜の製造方法、積層コンデンサの製造方法および多層膜製造装置

発明者： 西原 宗和 ,  新井 康司 ,  滝澤 貴博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-209508
公開番号（公開出願番号）：特開2003-022931
出願日： 2001年07月10日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】水分の排気能力はある程度確保しながら、拡散したガス成分等は吸着されずに常時排気するようにし、大排気容量による排気時間の低減を実現しつつ、排気能力の長期確保によるメンテナンス頻度の低減をはかり、処理圧力の安定化および設備の安定稼動を実現し、信頼性の高い多層膜を提供する。【解決手段】本発明では、ターボ分子ポンプによって、前記真空槽内に反応ガスを供給しつつ真空槽内を排気し、前記ターボ分子ポンプに接続されるクライオ冷却パネルを反応ガスが液化しにくい温度に設定することで成膜処理を行う成膜工程を含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

【請求項1】同一真空槽内で順次連続して成膜する多層膜の製造方法であって、ターボ分子ポンプによって、前記真空槽内に反応ガスを供給しつつ真空槽内を排気し、前記ターボ分子ポンプに接続されるクライオ冷却パネルを前記反応ガスが液化しにくい温度に設定することで成膜処理を行う成膜工程を含むことを特徴とする多層膜の製造方法。

IPC (3件)：

H01G 4/30 311 ,  B32B 15/08 ,  H01G 13/00 391

FI (3件)：

H01G 4/30 311 Z ,  B32B 15/08 K ,  H01G 13/00 391 C

Fターム (23件)：

4F100AB01C ,  4F100AB10C ,  4F100AH10B ,  4F100AH10D ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA11 ,  4F100DC21C ,  4F100EH66B ,  4F100EH66C ,  4F100EH66D ,  4F100EJ08B ,  4F100EJ08D ,  4F100GB41 ,  4F100JG05B ,  4F100JG05D ,  4F100JL02 ,  5E082AA01 ,  5E082AB03 ,  5E082EE23 ,  5E082FF05 ,  5E082FG06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 積層体の製造方法及び積層体の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-157601   出願人：松下電器産業株式会社
• 真空排気システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-148544   出願人：株式会社荏原製作所
• 複合クライオポンプとこれを使用した排気方法及び再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-371103   出願人：アルバック・クライオ株式会社
• 光記録媒体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-310888   出願人：東レ株式会社