半導体基板の洗浄液及びこれを使用する洗浄方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-027792
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246221
出願日： 1997年02月12日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】半導体基板の洗浄液及びこれを使用する洗浄方法を提供する。【解決手段】 HF溶液、H2 O2 溶液、IPA及び脱イオン水が所定の体積比で混合された洗浄液を提供し、前記洗浄液が盛られた第1液槽にウェーハを浸けて洗浄する段階と、前記洗浄されたウェーハを脱イオン水が盛られた第2液槽に浸けて前記洗浄されたウェーハの表面に残存する洗浄液を除去する段階と、前記洗浄液が除去されたウェーハを脱イオン水が盛られた第3液槽に浸けて前記洗浄液が除去されたウェーハの表面に残存する残留物を除去する段階と、前記残留物が除去されたウェーハを回転させ、その表面に残存する脱イオン水を除去する段階とを含む。

請求項（抜粋）：