特許
J-GLOBAL ID:200903002530576661

非化学量論的NiOxセラミックターゲット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-566269
公開番号(公開出願番号):特表2005-525463
出願日: 2003年02月04日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
本発明は、例えばスパッタリングマグネトロンのような陰極スパッタリング装置のための本質的にセラミックのターゲットに関する。ターゲットは、主としてニッケル酸化物からなり、そのニッケル酸化物NiOxは、化学量論的組成物に関して酸素が欠乏している。
請求項(抜粋):
特に磁気的に増幅されたスパッタリングを行うためのスパッタリング装置のためのものであって、主としてニッケル酸化物NiOxを含む本質的にセラミックのターゲットにおいて、 前記ニッケル酸化物が、化学量論的組成物に関して酸素が欠乏していることを特徴とするターゲット。
IPC (3件):
C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  H01B13/00
FI (3件):
C23C14/34 A ,  C23C14/08 J ,  H01B13/00 503B
Fターム (13件):
4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  5G323BA02 ,  5G323BB05
引用特許:
審査官引用 (3件)

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