特許

J-GLOBAL ID：200903002700514992

微細構造を有する型およびこの型を用いる成形体の製造方法

発明者： 安達 稔 ,  田中 武雄 ,  山田 修
出願人/特許権者： クラスターテクノロジー株式会社 ,  学校法人大阪産業大学 ,  田中 武雄 ,  山田 修
代理人 (1件)： 南條 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-192399
公開番号（公開出願番号）：特開2004-034194
出願日： 2002年07月01日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】微細構造のキャビティーを有する、離型性に優れた型を提供すること。【解決手段】セラミックス、金属間化合物、ガラス、およびアモルファスカーボンからなる群から選択される基材の表面に、1mm未満のサイズのキャビティーおよび/またはコアを設ける。この型に、溶媒に溶解または分散させたガラス、金属、金属錯体、半導体、セラミックス、ポリマー、ポリマー前駆体、生体高分子、ゾル状あるいはゲル状の物質、またはこれらの混合物からなる群から選択される材料を充填し、成形体を得ることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

セラミックス、金属間化合物、ガラス、およびアモルファスカーボンからなる群から選択される基材の表面に、マイクロメートルからナノメートルまでのサイズのキャビティーおよび/またはコアが設けられた、型。

IPC (5件)：

B81B1/00 ,  B29C33/38 ,  B81C5/00 ,  C03C15/00 ,  C04B41/91

FI (6件)：

B81B1/00 ,  B29C33/38 ,  B81C5/00 ,  C03C15/00 A ,  C04B41/91 Z ,  C04B35/52 A

Fターム (24件)：

4F202AH81 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AR12 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD18 ,  4F202CD28 ,  4F202CD30 ,  4G059AA08 ,  4G059AC01 ,  4G059BB01 ,  4G132AA05 ,  4G132BA28 ,  4G132CA04 ,  4G132GA51 ,  4G146AA01 ,  4G146AB05 ,  4G146AD02 ,  4G146AD11 ,  4G146BA01 ,  4G146BC15 ,  4G146CB15 ,  4G146CB16

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 微細パタン形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-251252   出願人：日本電信電話株式会社
• 反射型マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-270636   出願人：住友電気工業株式会社
• エネルギービームによる加工方法および加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-082077   出願人：株式会社荏原製作所, 畑村洋太郎