特許

J-GLOBAL ID：200903002951721288

光干渉トモグラフィ用の可変波長光発生装置及び光干渉トモグラフィ装置

発明者： 大林 康二 ,  清水 公也 ,  天野 卓治 ,  廣岡 秀明 ,  崔 東学 ,  古川 裕之 ,  中西 基 ,  狩野 文良 ,  宮澤 丈夫
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社 ,  学校法人北里学園
代理人 (3件)： 光石 俊郎 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-371711
公開番号（公開出願番号）：特開2006-184284
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：

【課題】制止困難な生体部分の断層観察を可能にするOCT技術を提供し、また、制止可能な部分の観察に対しても、制止を不要とし生体への負担を無くした断層観察技術を提供する。【解決手段】光干渉トモグラフィ装置の光源として、可変波長光発生装置(可変波長光源)を用いる。この可変波長光発生装置は波数を階段状に切り替え可能な手段を有するものとし、例えば波数の可変範囲の幅が4.7×10-2μm-1以上且つ出射光の周波数幅が13GHz以下であって、3.1×10-4μm-1以下の波数間隔且つ530μs以下の時間間隔で波数を階段状に切り替え可能な手段を有するものとする。【選択図】図1(a)

請求項（抜粋）：

出射光の波数の可変範囲の幅が4.7×10-2μm-1以上且つ出射光の周波数幅が13GHz以下の可変波長光発生装置であって、3.1×10-4μm-1以下の出射光の波数間隔且つ530μs以下の時間間隔で波数を階段状に切り替え可能な手段を有し、光干渉トモグラフィ装置の光源として用いられることを特徴とする可変波長光発生装置。

IPC (2件)：

G01N 21/17 ,  A61B 10/00

FI (2件)：

G01N21/17 625 ,  A61B10/00 E

Fターム (24件)：

2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG09 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 波長掃引機能付き半導体レーザ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-222718   出願人：日本電信電話株式会社
• 分布反射器とそれを用いた導波型ファブリ・ペロー光波長フィルタおよび半導体レーザ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-215162   出願人：日本電信電話株式会社
• United States Patent 4,896,325
  

審査官引用 (4件)

• 可変奥行き解像力を有する光学マッピング装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-543977   出願人：オーティーアイオフサルミックテクノロジーズインク
• 半導体レーザ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-317268   出願人：日本電気株式会社
• 半導体パルスレーザ装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-021800   出願人：沖電気工業株式会社
• 光イメージング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-374702   出願人：オリンパス光学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (3件)

• 応用物理, 2002, 第71巻、第11号, p1362-1366
• 臨床応用へ向けた光コヒーレンストモグラフィによる顕微診断
• Proceeding of twenty-third Meeting on Light wave Sensing Technology, 199906, p39-46