特許
J-GLOBAL ID：200903003042781635
ソースおよびマスクの最適化
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-132168
公開番号（公開出願番号）：特開2004-312027
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】マイクロリソグラフィの照明源およびマスクフィーチャを最適化する方法を提供する。【解決手段】照明源の輝度および形状を変化させ、ユーザが選択した断片化ポイントにおいて最小ILSを最大にしながら、断片化ポイントでの輝度を小さい輝度範囲内に抑えるイメージをイメージ面に形成することにより、照明源を最適化する。最適マスクは、回折次数の大きさおよび位相を変化させて、ユーザが選択した断片化ポイントにおいて最小ILSを最大にしながら、断片化ポイントでの輝度を小さい輝度範囲内に抑えるイメージをイメージ面に形成することによって決定することができる。最適マスクは、最適透過マスクの最小透過領域を-1に、最大透過領域を+1に割り当てることにより、CPLマスクを生成するため使用することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マスク照明用の照明源を最適化する方法で、
1つの照明源から複数のソースポイントおよび所定のマスクパターンへ照明を提供するステップと、
所定のマスクパターンに提供された照明によって形成されるイメージのイメージ面で断片化ポイントを選択するステップと、
各断片化ポイントで照明の輝度およびイメージログ傾斜を決定するステップと、
照明源として、選択された断片化ポイントにてイメージログ傾斜を最大にし、所定の範囲内の輝度を有する最適照明源を決定するステップとを含む方法。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F1/08
, G03F7/20
H01L21/30 516C
, G03F1/08 B
, G03F7/20 501
2H095BB06
, 2H095BB32
, 2H095BC19
, 2H097BA02
, 2H097BB01
, 2H097LA10
, 5F046DA02
, 5F046DB01
, 5F046DB10
