特許
J-GLOBAL ID:200903003264408045

ネガ型レジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-080481
公開番号(公開出願番号):特開2005-266474
出願日: 2004年03月19日
公開日(公表日): 2005年09月29日
要約:
【課題】 微細なレジストパターンを形成できるネガ型レジスト組成物を提供する【解決手段】 下記一般式(I)で表される構成単位(a1)と、下記一般式(II)で表される構成単位(a2)とを有するシルセスキオキサン樹脂(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、架橋剤成分(C)とを含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1は炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。)【化2】【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(I)
IPC (4件):
G03F7/038 ,  C08G77/16 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027
FI (4件):
G03F7/038 601 ,  C08G77/16 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R
Fターム (36件):
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  4J246AA03 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA52X ,  4J246CA520 ,  4J246CA53X ,  4J246CA530 ,  4J246CA55X ,  4J246CA550 ,  4J246FA011 ,  4J246FA081 ,  4J246FA321 ,  4J246FC061 ,  4J246FE04 ,  4J246FE23 ,  4J246GA01 ,  4J246GA02 ,  4J246HA15
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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