特許
J-GLOBAL ID:200903049208697670

シランモノマー及びポリマーを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-054579
公開番号(公開出願番号):特開2004-038143
出願日: 2003年02月28日
公開日(公表日): 2004年02月05日
要約:
【課題】新規なSi含有モノマー、斯かるモノマーを含有するポリマー及びそのポリマーを含有するフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】ビニル炭素環式アリールエステル化合物をトリハロシラントリヒドロキシシラン,トリアルコキシシラン等の反応性シラン化合物と反応させてモノマーを生成する。該モノマーを,多反応性窒素部位を有する化合物の存在下で、重合しシロキサンポリマーを得る。該ポリマーは好ましくはフォト酸レイビル基を含む1以上の繰り返し単位を含む。該ポリマーとフォト活性成分と混合させることによりフォトレジスト組成物を生成する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
a)ビニル炭素環式アリールエステル化合物とシラン化合物とを反応させてモノマーを生成し、該モノマーを重合させてシロキサンポリマーを提供し;及びb)該ポリマーとフォト活性成分を混合させることを含む、フォトレジスト組成物の調製方法。
IPC (5件):
G03F7/075 ,  C08G77/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6件):
G03F7/075 511 ,  C08G77/14 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 573
Fターム (44件):
2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CC20 ,  2H025DA11 ,  2H025DA29 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096CA05 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096KA02 ,  4J246AA03 ,  4J246AB06 ,  4J246BA020 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB010 ,  4J246BB012 ,  4J246CA270 ,  4J246CA39M ,  4J246CA53M ,  4J246CA64X ,  4J246CA640 ,  4J246CA99M ,  4J246FA061 ,  4J246FA121 ,  4J246FA151 ,  4J246FA171 ,  4J246GB04 ,  4J246GD08 ,  4J246HA15 ,  5F046NA01
引用特許:
審査官引用 (22件)
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