特許
J-GLOBAL ID：200903003346980367

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法

発明者：
大久保 靖

大久保 靖 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-257501
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083062
出願日： 1996年09月06日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】 位相シフト効果を必要としない領域における漏れ光等の問題を高度に解決する。【解決手段】 ハーフトーン型の位相シフトマスクにおける位相シフト効果を必要としない領域に遮光膜を設ける。例えば、透光部2の周縁にリム状に形成された半透光部3における四隅のコーナー部分に、遮光層4を設ける。
請求項（抜粋）：
微細パターン転写用のマスクであって、透明基板上に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる透光部と、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる半透光部とで構成し、かつ、この半透光部を透過した光の位相をシフトさせて、該半透光部を透過した光の位相と前記透光部を透過した光の位相とを異ならしめることにより、前記半透光部と透光部との境界部近傍を通過した光の相殺作用を利用して境界部のコントラストを向上させるハーフトーン型位相シフトマスクであって、前記透光部と半透光部との境界近傍における光の相殺作用に実質的に寄与する部分を除く半透光部の上又は下に遮光層を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、透光部の周縁にリム状に形成された半透光部における四隅のコーナー部分に、遮光層を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 G ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528
引用特許：
審査官引用 (4件)
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