特許

J-GLOBAL ID：200903003854766532

高エネルギー粒子の発生方法およびこれを利用した放射化分析方法と、高エネルギー粒子発生装置および放射化分析装置

発明者： 根本 孝七 ,  名雪 琢弥 ,  大石 祐嗣
出願人/特許権者： 財団法人電力中央研究所
代理人 (1件)： 村瀬 一美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-295211
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107499
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】 設備装置類の小型化、低コスト化を図る。取り扱いを簡便なものにする。【解決手段】 ターゲット12と、瞬間的な照射でターゲット12の電離が可能なエネルギーのレーザ光線13をターゲット12に瞬間的に照射して高エネルギー粒子14を発生させるレーザ光線照射手段15を備えて高エネルギー粒子発生装置11を構成する。この高エネルギー粒子発生装置11と、当該高エネルギー粒子発生装置11によって発生させた高エネルギー粒子14の照射を受けた測定対象物16の変化を計測する計測手段17を備えて放射化分析装置を構成する。

請求項（抜粋）：

瞬間的な照射でターゲットの電離が可能なエネルギーのレーザ光線を前記ターゲットに瞬間的に照射して高エネルギー粒子を発生させることを特徴とする高エネルギー粒子の発生方法。

IPC (4件)：

G21K 5/00 ,  G01N 23/221 ,  G21K 1/00 ,  G21K 5/08

FI (7件)：

G21K 5/00 M ,  G01N 23/221 ,  G21K 1/00 A ,  G21K 1/00 E ,  G21K 5/08 N ,  G21K 5/08 X ,  G21K 5/08 Z

Fターム (13件)：

2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001AA07 ,  2G001AA09 ,  2G001CA02 ,  2G001CA03 ,  2G001CA04 ,  2G001CA05 ,  2G001GA01 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001MA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

• X線発生用ターゲット、X線発生装置及びX線発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-187301   出願人：日本電信電話株式会社
• レーザアブレーション型イオン源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-287956   出願人：工業技術院長
• レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-155582   出願人：株式会社日立製作所
• ターゲット装置及びX線レーザ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-159798   出願人：浜松ホトニクス株式会社
• 特開昭64-046632
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 2000年春季第47回応用物理学関係連合講演会における発表文書, 20000328