特許
J-GLOBAL ID：200903003863708022

光学素子の製造方法

発明者：
鹿 島 啓 二

鹿 島 啓 二 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-311697
公開番号（公開出願番号）：特開2003-207644
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、液晶規則性を有した状態で重合性液晶材料を硬化させてなる光学素子の製造方法であって、基材との密着性に優れた光学素子を得ることができる光学素子の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】 本発明の光学素子の製造方法は、配向能を有する基材を調製する工程と、前記基材上に少なくとも重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を積層し、所定の液晶規則性を有する液晶層を形成する工程と、前記液晶層に活性放射線を照射して、光学機能層とする光学機能層形成工程と、前記光学機能層に対して液晶層を重合(架橋)させる前の等方層以上の温度で熱処理を行う熱処理工程とを含んでなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
配向能を有する基材を調製する工程と、前記基材上に少なくとも重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を積層し、所定の液晶規則性を有する液晶層を形成する工程と、前記液晶層に活性放射線を照射して、光学機能層とする光学機能層形成工程と、前記光学機能層に対して液晶層を重合(架橋)させる前の等方層以上の温度で熱処理を行う熱処理工程とを含んでなることを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/30 ,  C08F 2/00 ,  G02F 1/13363
FI (3件)：
G02B 5/30 ,  C08F 2/00 C ,  G02F 1/13363
Fターム (22件)：
2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC03 ,  2H049BC10 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA12X ,  2H091FA12Z ,  2H091FB04 ,  2H091FC07 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FC25 ,  2H091JA00 ,  4J011CA01 ,  4J011CA08 ,  4J011CB00 ,  4J011CC04 ,  4J011CC09 ,  4J011CC10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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