両面洗浄ユニット及びこれを用いたウエット処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：生形元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-190498
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026416
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】装置長を短縮する。仕様変更に伴う処理プロセスの変更を容易にする。ユーザの希望するプロセス設定を容易にする。【解決手段】周囲に基板600の授受を行う基板授受ユニット100を中心として、その周囲に、エッチング処理を行う第1の基板処理ユニット200、リンスドライを行う第2の基板処理ユニット200′及び両面洗浄ユニット300を配置する。両面洗浄ユニット300は、基板600を水平に支持する固定式ピンと、基板600を昇降させる昇降式ピンとを備え、昇降式ピンにより洗浄途中に基板600を傾斜させる。

請求項（抜粋）：

洗浄すべき基板を支持する基板支持手段と、基板支持手段により支持された基板の上下両面に洗浄液を噴射するべくその支持位置の上下に設けられた散水手段とを具備し、前記基板支持手段は基板を下方から支承する複数のピンを有し、複数のピンは基板を水平に支持する複数の固定式ピンと、基板を昇降させる複数の昇降式ピンとからなり、複数の昇降式ピンは基板を傾斜させることができるようにストロークが異なることを特徴とする両面洗浄ユニット。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

ワーク洗浄処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-217426 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-083299 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ウエハ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-017715 出願人：株式会社日立製作所

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