特許
J-GLOBAL ID：200903003967647726
流動層炭素ナノチューブの生成装置並びにそれを使用した炭素ナノチューブの生成設備及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人共生国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-283967
公開番号（公開出願番号）：特開2009-161426
出願日： 2008年11月05日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【課題】高効率で大量生産が可能な炭素ナノチューブ生成装置を特徴とする。【解決手段】金属触媒とソースガスとが互いに反応して、炭素ナノチューブが生成される反応空間を提供する反応炉と、反応空間で金属触媒の流動化を向上させて、生産性の向上とガス転換率を高めて、炭素ナノチューブ価格の低減及び金属触媒が反応炉の側壁に癒着するのを防止するための回転体を備える炭素ナノチューブの生成装置を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
金属触媒とソースガスとが互いに反応して、炭素ナノチューブが生成される反応空間を提供する反応炉と、
前記反応空間で金属触媒の流動化を向上させる回転体とを備えることを特徴とする流動層炭素ナノチューブの生成装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
4G146AA11
, 4G146AD23
, 4G146AD24
, 4G146AD29
, 4G146DA03
, 4G146DA13
, 4G146DA23
, 4G146DA25
, 4G146DA28
, 4G146DA34
, 4G146DA45
, 4G146DA46
, 4G146DA47
出願人引用 (1件)
-
カーボンナノ構造物の製造方法及び製造装置
公報種別：再公表公報
出願番号：JP2005017419
出願人：独立行政法人科学技術振興機構, 公立大学法人大阪府立大学, 大陽日酸株式会社, 大塚化学株式会社, 日新電機株式会社, 大研化学工業株式会社
審査官引用 (8件)
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