特許
J-GLOBAL ID:200903004019229999

磁性粒子を用いた遺伝子導入方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-017755
公開番号(公開出願番号):特開2008-182921
出願日: 2007年01月29日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
【課題】新規な遺伝子導入方法の提供【解決手段】遺伝子導入ベクター(2)と金磁性粒子(1)との複合体(3)を用いて標的細胞(6)に遺伝子を導入する遺伝子導入方法であって、磁場(8)を印加して前記複合体(3)を前記標的細胞(6)の表面に誘導する工程を含む遺伝子導入方法である。前記遺伝子導入ベクター(2)は、ベクター表面に硫黄原子を有するベクターであり、例えば、ウイルスベクターである。前記金磁性粒子(1)は、磁性粒子(5)の表面に金粒子(4)が接合し又は担持された粒子である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
遺伝子導入ベクターと金磁性粒子との複合体を用いて標的細胞に遺伝子を導入する遺伝子導入方法であって、 磁場を印加して前記複合体を前記標的細胞表面に誘導する工程を含み、 前記遺伝子導入ベクターが、ベクター表面に硫黄原子を有するベクターであり、 前記金磁性粒子が、磁性粒子の表面に金粒子が接合し又は担持された粒子であることを特徴とする遺伝子導入方法。
IPC (2件):
C12N 15/09 ,  A61P 35/00
FI (2件):
C12N15/00 A ,  A61P35/00
Fターム (21件):
4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024EA01 ,  4B024EA02 ,  4B024EA10 ,  4B024FA20 ,  4B024GA11 ,  4B024HA20 ,  4C076AA30 ,  4C076CC27 ,  4C076DD21A ,  4C076FF02 ,  4C084AA13 ,  4C084NA14 ,  4C084ZB26 ,  4C087AA01 ,  4C087BC83 ,  4C087CA12 ,  4C087NA14 ,  4C087ZB26
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献:
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