特許
J-GLOBAL ID:200903004049532866

紫外用光学素子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-265242
公開番号(公開出願番号):特開平10-158035
出願日: 1997年09月30日
公開日(公表日): 1998年06月16日
要約:
【要約】【課題】 CeO2などの金属不純物がほとんど検出されず、かつ表面粗さも1ÅRMS以下であっても、理論透過率より0.5%以上も透過率が低いことがあり、問題となる。【解決手段】 光学素材の表面をHF処理する前、またはHF処理後、100°C以上1000°C以下の温度で熱処理することを特徴とする紫外用光学素子の製造方法を提供する。
請求項(抜粋):
400nm以下の特定波長で用いられる紫外用光学素子において、使用する特定波長での内部透過率が99.5%以上であり、光が入射する表面及び出射する表面に有機系不純物が存在せず、かつ有機系ガスの吸着が実質的にないことを特徴とする紫外用光学素子。
IPC (3件):
C03C 15/00 ,  C03B 32/00 ,  G02B 1/00
FI (3件):
C03C 15/00 E ,  C03B 32/00 ,  G02B 1/00
引用特許:
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る