特許
J-GLOBAL ID：200903004114981835
ガラス基板及びそれを用いた平板ディスプレイ装置並びにガラス基板の熱処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-260283
公開番号（公開出願番号）：特開2000-086261
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】 低温p-SiTFT液晶ディスプレイ用として、デバイス作製時の二次熱処理を行う際の熱収縮率の小さいガラス基板を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のガラス基板は、歪点が600°C以上のガラスからなり、常温から10°C/分の速度で昇温し、ガラスの歪点-(40〜150°C)の温度で加熱保持した後、10°C/分の速度で常温まで降温する条件で熱処理を行うにあたり、前記加熱保持時間が30分の場合と、5時間の場合のいずれの条件でも、熱処理前後の寸法変化が±20ppm以内であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
歪点が600°C以上のガラスからなり、常温から10°C/分の速度で昇温し、ガラスの歪点-(40〜150°C)の温度で加熱保持した後、10°C/分の速度で常温まで降温する条件で熱処理を行うにあたり、前記加熱保持時間が30分の場合と、5時間の場合のいずれの条件でも、熱処理前後の寸法変化が±20ppm以内であることを特徴とするガラス基板。
Fターム (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
