特許

J-GLOBAL ID：200903004182312038

化学増幅型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-335603
公開番号（公開出願番号）：特開平10-171122
出願日： 1996年12月16日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】 透明性、ドライエッチング耐性、基板密着性を維持し、解像度および現像液に対する溶解性に優れた化学増幅型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 少なくとも酸の作用により酸分解性基が分解しアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂と、露光により酸を発生する光酸発生剤を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物において、前記樹脂構造中の酸の作用により分解する酸分解性基が下記一般式(1)で表されることを特徴とする。【化1】(上式において、R1 は環式炭化水素基を有する炭素数6〜10の2価の炭化水素基、R2 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基あるいはアシル基を表す。)

請求項（抜粋）：

少なくとも酸の作用により酸分解性基が分解しアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂と、露光により酸を発生する光酸発生剤を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物において、前記樹脂構造中の酸の作用により分解する酸分解性基が下記一般式(1)で表されることを特徴とする化学増幅型フォトレジスト組成物。【化1】(上式において、R1 は環式炭化水素基を有する炭素数6〜10の2価の炭化水素基、R2 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、あるいはアシル基を表す。)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-169983   出願人：日本ゼオン株式会社
• ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-280695   出願人：日本電気株式会社
• 有橋環式炭化水素アルコール
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-144280   出願人：日本電気株式会社
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-196082   出願人：日本ゼオン株式会社