特許

J-GLOBAL ID：200903004265417346

ガスハイドレートの生成装置、製造装置および製造方法

発明者： 加藤 裕一 ,  新井 敬 ,  岩崎 徹 ,  松尾 和芳 ,  堀口 清司
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： 石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-163731
公開番号（公開出願番号）：特開2004-010686
出願日： 2002年06月05日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】大気圧下において輸送や貯蔵の効率が高く、ハンドリング性に優れた低付着水分である高濃度のガスハイドレートを生成する生成装置、製造装置、および製造方法を提供する。【解決手段】水供給手段18と原料ガス供給手段20を備え、所定の温度および圧力条件の下、水に原料ガスを気泡として導入し、ガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、液面より上部に浮き上がったクラスター状のガスハイドレートを回収する回収手段13を備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

水供給手段と原料ガス供給手段を備え、所定の温度および圧力条件の下、水に原料ガスを気泡として導入し、ガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、 液面より上部に浮き上がったクラスター状のガスハイドレートを回収する回収手段を備えていることを特徴とする、ガスハイドレート生成装置。

IPC (8件)：

C10L3/06 ,  C07B61/00 ,  C07B63/02 ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08

FI (8件)：

C10L3/00 A ,  C07B61/00 C ,  C07B63/02 B ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08

Fターム (4件)：

4H006AA02 ,  4H006AC93 ,  4H006BB31 ,  4H006BE60

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ガスハイドレート連続製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-137267   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• ガスハイドレート生成容器、ガスハイドレート製造装置及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-272544   出願人：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレートの生成方法および生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-225987   出願人：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-097104   出願人：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレートの連続製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-069494   出願人：三井造船株式会社