特許

J-GLOBAL ID：200903004300202056

水蒸気供給装置

発明者： 三木 正博 ,  新田 雄久 ,  斉藤 輝夫 ,  佐々木 光彦 ,  前田 慶之 ,  牛丸 正志 ,  大見 忠弘
出願人/特許権者： 横河電機株式会社 ,  ユーシーティー株式会社 ,  ラムリサーチ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066553
公開番号（公開出願番号）：特開2001-252550
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：

【要約】【課題】 超純粋水蒸気と超純粋化学成分含有水蒸気を安定に供給できる供給水蒸気供給装置を実現することにある。【解決手段】 所定量の純水を供給する純水定量供給手段と、この純水定量供給手段から供給される純水を加熱する加熱手段と、加熱された純水の通路の内径を部分的に異ならせて内部圧力を制御する内圧制御手段とを含み、前記各手段は化学的耐蝕性部材で構成されたことを特徴とするもの。

請求項（抜粋）：

所定量の純水を供給する純水定量供給手段と、この純水定量供給手段から供給される純水を加熱する加熱手段と、加熱された純水の通路の内径を部分的に異ならせて内部圧力を制御する内圧制御手段とを含み、前記各手段は化学的耐蝕性部材で構成されたことを特徴とする水蒸気供給装置。

IPC (6件)：

B01J 4/00 102 ,  B01J 4/00 103 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/304 645 ,  C01B 5/00

FI (6件)：

B01J 4/00 102 ,  B01J 4/00 103 ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 645 B ,  C01B 5/00 Z

Fターム (13件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB13 ,  3B201BB22 ,  3B201BB33 ,  3B201BB92 ,  4G068AA02 ,  4G068AB02 ,  4G068AB11 ,  4G068AC01 ,  4G068AC13 ,  4G068AD16 ,  4G068AF31

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 表面を入念に洗浄するための方法と装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-511386   出願人：クンツェ-コンセウィッツホルスト
• ガス供給ノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-224097   出願人：住友金属工業株式会社
• 基材表面からの炭素の除去
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-092887   出願人：プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
• 表面浄化装置及び表面浄化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-290344   出願人：ユーシーティー株式会社