特許
J-GLOBAL ID：200903004679859707

無電解ニッケルめっき液、及びセラミック電子部品の製造方法

発明者：
平山 克郎

平山 克郎 について


出願人/特許権者：
株式会社村田製作所

株式会社村田製作所 について


代理人 (1件)： 國弘 安俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-000910
公開番号（公開出願番号）：特開2005-194562
出願日： 2004年01月06日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 鉛成分を含有しなくも所望の浴安定性を有する無電解ニッケルめっき液と、この無電解ニッケルめっき液を使用することによりはんだ濡れ性を向上させることができるセラミック電子部品の製造方法を提供する。 【解決手段】 インジウム化合物、バリウム化合物、及びスズ化合物の中から選択された少なくとも1種以上を、無電解ニッケルめっき液中に金属元素換算で総計0.1〜100ppm含有している。 【選択図】 選択図なし
請求項（抜粋）：
還元剤を含有した無電解ニッケルめっき液であって、 インジウム及びバリウムのうちの少なくともいずれか一方の金属成分が含有されていることを特徴とする無電解ニッケルめっき液。
IPC (4件)：
C23C18/34 ,  C23C18/31 ,  C23C18/50 ,  C23C18/52
FI (4件)：
C23C18/34 ,  C23C18/31 A ,  C23C18/50 ,  C23C18/52 B
Fターム (12件)：
4K022AA04 ,  4K022BA03 ,  4K022BA10 ,  4K022BA14 ,  4K022BA31 ,  4K022BA32 ,  4K022BA36 ,  4K022CA07 ,  4K022CA13 ,  4K022CA22 ,  4K022DA03 ,  4K022DB02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 無電解ニッケルめっき液
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-374640   出願人：日鉱メタルプレーティング株式会社
審査官引用 (7件)
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