特許

J-GLOBAL ID：200903004751006463

膜形成装置

発明者： 江崎 幸彦 ,  北野 高広 ,  竹下 和宏 ,  飽本 正己 ,  森川 祐晃 ,  古閑 法久 ,  石坂 信和 ,  大隈 博文
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-380532
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237178
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】 塗布液供給手段を移動させる際に,摺動抵抗をより少なくして振動を抑えることができる,膜形成装置を提供する。【解決手段】 レジスト塗布装置17において,吐出ノズル85を往復移動させる移動手段86は,吐出ノズル85を支持するスライダ91を軸受部97a,97bを介してガイド軸98a,98bにスライド自在に取り付けている。軸受部97a,97b内に,エア供給チューブ101によりエアを供給し,ガイド軸98a,98bに対してスライダ91を中立浮上させた状態にする。

請求項（抜粋）：

塗布液吐出手段から基板に塗布液を供給してこの基板上に膜を形成する装置であって,前記塗布液吐出手段を移動させる移動手段を備え,前記移動手段は,前記塗布液吐出手段を支持する支持部材と,前記支持部材を移動させる移動部材と,前記支持部材に形成された軸受部を通るガイド軸と,前記軸受部と前記ガイド軸の隙間に,流体を供給する流体供給機構とを備えていることを特徴とする,膜形成装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 502

FI (5件)：

B05C 5/00 101 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 静圧流体軸受
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-358644   出願人：京セラ株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-086560   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 位置決め機構、保持装置、半導体ウエハの移替え装置および位置合わせ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-133802   出願人：株式会社ハーモテック
• 処理液供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-221148   出願人：大日本スクリーン製造株式会社