特許
J-GLOBAL ID：200903004801742964

ガスバリアフィルムおよびこれを用いた有機デバイス

発明者：
饗場 聡

饗場 聡 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-067006
公開番号（公開出願番号）：特開2007-237702
出願日： 2006年03月13日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】高いバリア性と透明性とを有し、且つ膜応力が小さくてバリア性の経時安定性に優れたガスバリアフィルムを提供する。【解決手段】透明な可撓性支持基板2と、水蒸気透過率が0.09g/m2/day以下である酸化窒化珪素薄膜Aからなるガスバリア層3aを少なくとも1層有しており、薄膜Aの元素組成が、N/Si(係数Xa)が0.1〜0.9、O/Si(係数Ya)が0.65〜1.85、4-(3Xa+2Ya)が1以下となるように構成したガスバリアフィルム。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明な可撓性支持基板と、40°C・相対湿度90%における水蒸気透過率が0.09g/m2/day以下である酸化窒化珪素薄膜Aからなるガスバリア層を少なくとも1層有しており、前記酸化窒化珪素薄膜Aの元素組成が、珪素に対する窒素比率(N/Si、係数Xa)が0.1〜0.9の範囲にあり、珪素に対する酸素比率(O/Si、係数Ya)が0.65〜1.85の範囲にあり、且つ下記式(1)により得られる係数Zaが1以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 (式1) Za = 4-(3Xa+2Ya)
IPC (4件)：
B32B 9/00 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50
FI (4件)：
B32B9/00 A ,  H05B33/02 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A
Fターム (34件)：
3K107AA01 ,  3K107CC23 ,  3K107DD17 ,  3K107DD19 ,  3K107EE45 ,  3K107FF00 ,  3K107FF06 ,  3K107FF14 ,  3K107FF17 ,  4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AD05B ,  4F100AD05C ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA27 ,  4F100EH66B ,  4F100GB41 ,  4F100JD04 ,  4F100JD04B ,  4F100JD04C ,  4F100JK17A ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100YY00 ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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