特許
J-GLOBAL ID:200903004836305095

静磁場発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-356387
公開番号(公開出願番号):特開平10-179546
出願日: 1996年12月26日
公開日(公表日): 1998年07月07日
要約:
【要約】【課題】 静磁場を補正する鉄片の総重量および鉄片を配置する領域を最小限にとどめ、かつ磁場均一度の良好な静磁場発生装置を提供する。【解決手段】 静磁場発生装置(1)では、撮影空間(2)を間に挾んで上下方向に対向して超電導コイル(4)とその冷却容器(5)を具備する静磁場発生源(3)が配置され、撮影空間(2)内に静磁場を発生する。超電導コイル(4)で発生した磁束線は板状の強磁性体(11)に集められ、柱状の強磁性体(7)を帰路として戻る。板状の強磁性体(11)の中心部に円形穴(12)を設けて、板状の強磁性体(11)内の磁束線の流れを調整することにより、撮影空間(2)内の静磁場を補正する。また、円形穴(12)内には冷凍機(13)を配置する。
請求項(抜粋):
有限の領域に第1の方向に向かう静磁場を発生させる電流を流す電流搬送手段と、該電流搬送手段を収容し支持する容器とを有する静磁場発生源と、第1の方向とほぼ直交するように配置されて前記静磁場発生源が発生する磁束線を集めるための1対の磁束収束手段と、前記1対の磁束収束手段を磁気的に接続して磁束線を通す磁気回路を形成する少なくとも1個以上の磁束通過手段とを具備する静磁場発生装置において、前記磁束収束手段の一部に前記有限の領域の静磁場の磁場補正する磁場補正手段が設けられ、該磁場補正手段が少なくとも1個以上の比透磁率の低い物質を充填した部分または/および空隙穴を有することを特徴とする静磁場発生装置。
IPC (3件):
A61B 5/055 ,  G01R 33/3815 ,  G01R 33/387
FI (3件):
A61B 5/05 332 ,  G01N 24/06 510 C ,  G01N 24/06 520 Y
引用特許:
審査官引用 (9件)
  • 磁気共鳴結像用近接自在磁石
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-287631   出願人:アプライドスーパーコネティクス,インコーポレイテッド
  • 特開平4-324911
  • 特開平4-029305
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