特許
J-GLOBAL ID：200903004879612331

基板処理方法および基板処理装置

発明者：
藤川 和憲

藤川 和憲 について

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岩田 智巳

岩田 智巳 について

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西澤 久雄

西澤 久雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-002474
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199850
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 省スペース化を図り、基板の汚染も防止する表面処理方法と装置を提供する。【解決手段】 基板Wの周囲に処理ガス(薬液の蒸気や反応ガス)を供給して基板Wの表面処理を行う表面処理工程と、処理ガスを処理室2から排出する排出工程と、洗浄液により基板Wを洗浄する洗浄工程と、洗浄液に対して溶解性を有しかつ基板表面の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気の雰囲気で、洗浄液の上昇液流内に浸漬された基板Wを引き上げて乾燥させる乾燥工程とを同一の処理室2内で行い、かつ、表面処理工程と排出工程と洗浄工程はそれぞれ1回以上行うものであり、乾燥工程前の最後の洗浄工程は、洗浄液の上昇液流内に基板Wを浸漬させて行うようにした。
請求項（抜粋）：
基板の周囲に処理ガスを供給して基板の表面処理を行う表面処理工程と、前記処理ガスを排出する排出工程と、洗浄液により基板を洗浄する洗浄工程と、洗浄液に対して溶解性を有しかつ基板表面の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気の雰囲気で、洗浄液の上昇液流内に浸漬された基板を引き上げて乾燥させる乾燥工程と、を同一の処理室内で行い、かつ、前記表面処理工程と前記排出工程と前記洗浄工程はそれぞれ1回以上行うものであり、前記乾燥工程前の最後の洗浄工程は、洗浄液の上昇液流内に基板を浸漬させて行うようにしたことを特徴とする基板処理方法。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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