バルク加熱により基板に生じた歪みを修正するためのシステムおよび方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：長谷川芳樹 , 山田行一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-152437
公開番号（公開出願番号）：特開2004-312030
出願日： 2004年05月21日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】描画処理中に基板の熱膨張を修正し熱膨張によって生じる誤差を回避する。【解決手段】電子ビーム描画システムは、基板上にパターンを形成するために、電子ビームを放射するべく動作可能な電子ビームパターニング装置を備えている。電子ビームパターニング装置と結合したコンピュータ制御システムが、複数の事前に算出された歪みマップを備えている。各歪みマップは、電子ビームへの露光から生じるバルク加熱によって発生が予想される基板12の歪み26を示す。コンピュータ制御システムは、予想された歪みを調整するために、歪みマップを用いて電子ビームパターニング装置を制御する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

電子ビーム描画システムであって、基板上にパターンを形成するために電子ビームを放射するべく動作可能な電子ビームパターニング装置を有し、前記電子ビームパターニング装置と結合しており、複数の事前に計算された歪みマップを有するコンピュータ制御システムをさらに有し、前記歪みマップの各々は、前記電子ビームへの露光によるバルク加熱により引き起こされる基板の予想される歪みを示し、前記コンピュータ制御システムは、前記予想される歪みを線形重ね合わせ技術を用いて調整するために、前記歪みマップを用いて電子ビームパターニング装置を制御するべく動作可能である電子ビーム描画システム。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 541J , G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F056AA01 , 5F056CA05 , 5F056CC03 , 5F056CC16 , 5F056CD02

引用特許：

審査官引用 (6件)

特許第3615149号
レーザレチクル描画装置の座標歪み補正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-321837 出願人：石川島播磨重工業株式会社, 石川島システムテクノロジー株式会社
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-038017 出願人：株式会社ニコン

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