特許
J-GLOBAL ID：200903004981896042

酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット、酸化物透明電極膜の製造方法

発明者：
阿部 能之

阿部 能之 について

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石山 典子

石山 典子 について

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小原 剛

小原 剛 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (2件)： 鴨田 朝雄 ,  鴨田 哲彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-332879
公開番号（公開出願番号）：特開2004-168636
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】 可視光領域だけでなく赤外線領域においても透過性に優れ、しかも、低抵抗値を有する酸化物透明電極膜を製造するための焼結体ターゲットであり、アーキング抑制機能のない電源を用いた直流スパッタリング成膜で、高電力投入でもアーキングが発生しにくく、従って、高速成膜が可能で、また長時間電力を投入してもアーキングが発生することのない焼結体ターゲットを提供する。【解決手段】 主として酸化インジウムからなり、チタンを含み、チタンの含有量がTi/In原子数比で0.003〜0.120であり、比抵抗が1kΩcm以下である。さらに、比抵抗が1×10-2Ωcm以下であることが望ましい。さらに、チタンの含有量がTi/In原子数比で0.003〜0.019であることが望ましい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
主として酸化インジウムからなり、チタンを含む酸化物焼結体において、チタンの含有量がTi/In原子数比で0.003〜0.120であり、比抵抗が1kΩcm以下であることを特徴とする酸化物焼結体。
IPC (6件)：
C04B35/495 ,  C23C14/34 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30 ,  H01B13/00 ,  H01L31/04
FI (7件)：
C04B35/00 J ,  C23C14/34 A ,  G09F9/00 342 ,  G09F9/30 339 ,  H01B13/00 503B ,  H01L31/04 H ,  H01L31/04 M
Fターム (46件)：
4G030AA16 ,  4G030AA34 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030CA01 ,  4G030GA04 ,  4G030GA05 ,  4G030GA11 ,  4G030GA22 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4K029BC09 ,  4K029CA03 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC21 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  5C094AA04 ,  5C094AA24 ,  5C094AA43 ,  5C094DA13 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094FB12 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5C094JA05 ,  5C094JA08 ,  5C094JA11 ,  5F051BA16 ,  5F051FA04 ,  5F051FA06 ,  5F051FA08 ,  5F051FA30 ,  5G323BA02 ,  5G323BB05 ,  5G435AA01 ,  5G435AA17 ,  5G435HH02 ,  5G435HH12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK07 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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