特許
J-GLOBAL ID:200903005057604333

表面検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 祥二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-263954
公開番号(公開出願番号):特開2006-017743
出願日: 2005年09月12日
公開日(公表日): 2006年01月19日
要約:
【課題】 表面検査装置に於いて充分な照射光強度、検査精度を維持し、更にスループットの向上を図る。 【解決手段】 基板5表面にレーザ光線2を照射し、該レーザ光線による散乱反射光を検出して異物を検出する表面検査装置に於いて、光源部12が複数の発光源を有し、1つの結像レンズを有すると共に各発光源に対応して設けられ該発光源からのレーザ光線を前記結像レンズに入射する光学部材を有し、前記発光源から結像レンズに入射する光軸を前記結像レンズの光軸に対して傾斜する様にし、前記各発光源からのレーザ光線の照射点を互いに走査方向に対して交差する方向にずらす様な光束として基板表面に照射し、走査ピッチを大きくした照射光学系を具備した。 【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板表面にレーザ光線を照射し、該レーザ光線による散乱反射光を検出して異物を検出する表面検査装置に於いて、光源部が複数の発光源を有し、1つの結像レンズを有すると共に各発光源に対応して設けられ該発光源からのレーザ光線を前記結像レンズに入射する光学部材を有し、前記発光源から結像レンズに入射する光軸を前記結像レンズの光軸に対して傾斜する様にし、前記各発光源からのレーザ光線の照射点を互いに走査方向に対して交差する方向にずらす様な光束として基板表面に照射し、走査ピッチを大きくした照射光学系を具備したことを特徴とする表面検査装置。
IPC (3件):
G01N 21/84 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (3件):
G01N21/84 E ,  G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
Fターム (18件):
2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB03 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA08 ,  2G051EA25 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106CA41 ,  4M106DB08 ,  4M106DB12 ,  4M106DB19
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)
  • 表面検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-034390   出願人:株式会社東芝
  • マルチビーム光源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-158933   出願人:株式会社リコー

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