転写体の製造方法、光硬化性組成物、および微細構造体の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-238817
公開番号（公開出願番号）：特開2006-110997
出願日： 2005年08月19日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

【課題】転写体の製造方法、光硬化性組成物、および該光硬化性組成物を用いた微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成しうる含フッ素単量体(A)および重合開始剤(B)を含有する硬化性組成物を、最小寸法が50μm以下のパターンが表面に形成されたモールドと接触した状態で硬化させるモールドのパターンが転写された転写体の製造方法、ならびに微細パターンの反転パターンを有するモールドの該反転パターン面と、基材表面との間に挟持して押圧した後に光照射により硬化することによって、微細パターンを表面に有する硬化物を形成する光硬化性組成物であり、かつ主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成する、たとえばCF2=CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH=CH2と光重合開始剤を含み実質的に溶媒を含まない光硬化性組成物。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

モールドのパターンが転写された転写体の製造方法であって、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成しうる含フッ素単量体(A)および重合開始剤(B)を含有する硬化性組成物を、最小寸法が50μm以下のパターンが表面に形成されたモールドと接触した状態で硬化させることを特徴とする転写体の製造方法。

IPC (6件)：

B29C 59/02 , C08F 36/20 , C08F 16/32 , H01L 21/027 , B82B 3/00 , B82B 1/00

FI (6件)：

B29C59/02 Z , C08F36/20 , C08F16/32 , H01L21/30 502D , B82B3/00 , B82B1/00

Fターム (27件)：

4F209AA16 , 4F209AA44 , 4F209AB03 , 4F209AC05 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN09 , 4J100AE65P , 4J100AE72P , 4J100AE78P , 4J100AR32P , 4J100AS13P , 4J100AU28P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA05P , 4J100BA20P , 4J100BB07P , 4J100BB10P , 4J100BB18P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100FA03 , 4J100JA46 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (9件)

米国特許第5772905号明細書
微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-130608 出願人：日本電気株式会社
加工方法及び成形体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-358296 出願人：株式会社東芝

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